电子基片薄膜应力形变分析仪 型号：KPBGS-6341A
该产品主要应用在微电子、光电子生产线上和科研、教学等域Si、Ge、GaAs等半导体基片及电子薄膜应力分布、光学零件面形和平整度面形、 基片曲率半径测量测试。该仪器总测量点数多, 能给出场面型分布结果, 适合于微电子生产线上产品质量的快速检验和微电子生产艺研究。
电子基片薄膜应力形变分析仪仪器基于干涉计量的场测试原理, 可实时观测面型的分布, 迅速了解被测样品的形貌及应力集中位置, 及时淘汰早期失效产品。
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错位相移术
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计算机自动条纹处理
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测试过程自动
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的曲面补偿测试原理
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电子基片薄膜应力形变分析仪大样品尺寸
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≤100mm (4英寸)
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曲率范围
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|R|≥5米
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测试度
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5%
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单片测量时间
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3分钟/片
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结果类型
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面形、曲率半径、应力分布、公式表示、数据表格
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图形显示能
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三维立体显示、二维伪彩色显示、单截面曲线显示
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电源
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AC 220V±10%, 50Hz±5%
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大耗
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100W
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外型尺寸(L×W×H)
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285mm×680mm×450mm
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重量
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36kg
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